Ledit 16.3 版图软件全面系统性教程

前言

在学习和使用 Ledit 16.3 的过程中，我发现网上关于它的资料呈现出 “众说纷纭” 的状态。这些资料要么是零散的知识点，缺乏系统性的梳理，让人难以形成连贯的认知；要么在内容覆盖上存在明显短板，全面性严重不足，对于一些关键功能和实际应用场景的讲解更是寥寥无几。鉴于此，为了能让更多想要深入了解和熟练运用 ledit16.3 的人有更优质的学习资料，我便决定执笔，将自己在使用过程中的心得以及结合具体案例的详细教程撰写出来，希望能为大家提供更具指导性和实用性的帮助。

1. 基本界面介绍（工具、窗口、视图、主题）

下载安装完成，打开后的界面如下：

汉化步骤

首先介绍汉化步骤：

窗口与功能区

紧接着，简要介绍各功能区和窗口面板：

上图对应工具栏的功能速查表：

如果您的界面不同，或者需要的窗口未显示，按如下两种方法步骤打开窗口显示即可：

视图与个性化

紧接着，视图部分可以根据自己喜好，长按鼠标左键拖动调整窗口和工具栏的位置。拖动工具栏时候，需长按点击前方的竖排省略号；拖动窗口时根据箭头指引可以自由设计窗口之间的贴合与衔接！

此外，还可以根据自己喜欢的色彩搭配和主题色，选取和修改自己喜欢的界面主题：

2. 官方帮助和学习手册介绍

另外，其实安装完成后官方已经给了详细的帮助和使用指南，有两种方法可以参阅。

第一，可以点击帮助按钮，选择查看，会自动打开相应pdf参阅，但是缺点就是有些版本和视图是老版本的，不太适配，特殊情况下根据自己需要用到什么查什么就行：

第二，进入软件的安装路径中的Docs文件夹下查阅：

官方指南速查表

Docs文件夹中对应文件的功能速查表：

3. 常用快捷键

此处直接列举一些实用性强的快捷键，更多详细的参阅Docs文档中的leqref.pdf文件：

Ctrl+C ➡ 复制

Ctrl+V ➡ 粘贴

Ctrl+滚轮 ➡ 放大/缩小

Ctrl+E ➡ 编辑物体

选中图形+长按滚轮 ➡ 移动图形

Home键 ➡ 将图形放至适合屏幕的大小

t（英文） ➡ 标尺

清除标尺

Ctrl+F ➡ 打开“查找对象”对话框

方向键（上下左右、鼠标滚轮） ➡ 画板移动

选中对象 + 对象边缘线处长按滚轮 ➡ 调整图形尺寸和边长

选中多个图形 + 在边缘长按鼠标拖动 ➡ 只会移动，不会拉伸

R ➡ 逆时针旋转选定对象 90°

Ctrl+R ➡ 打开“旋转选定对象”对话框

H ➡ 沿水平轴翻转选定对象

V ➡ 沿垂直轴翻转选定对象

选中对象 + Ctrl + 上下左右方向键 ➡ 对选中对象进行位置微调

Shift + 左键 ➡ 增选对象

Alt + 右键 ➡ 减选对象

N ➡ 创建新单元

O ➡ 打开现有单元

C ➡ 复制单元

I ➡ 实例化单元（引用其他cell）

常用快捷键速查表

4. 网格设置（鼠标、面板、选择、吸附）

网格设置

在版图设计过程中，网格（Grid） 是保证绘图精度与对齐的核心工具。L-Edit 提供了丰富的网格设置功能，主要包括显示网格、鼠标对齐、选择范围及对象吸附等部分。
由如下图所示打开网格编辑窗口：

打开的Setup Design test窗口包括很多子窗口，如栅格、选择、画图等，下面依次来阐述和讲解常用的几个网格设置：

Manufacturing grid 定义了版图数据库中最小的坐标分辨率，这个设置尤为重要，如果设置的精度不够，就会出现绘制图形精度差、光滑度差，最终影响工艺环节制造的质量。如下图网格最小精度设置1微米和0.01微米的对比区别（特别注意，哪怕你取消勾选了Display curves using manufacturing grid，可能就看不到精度不够引起的锯齿状，但是会影响实际生产过程中工艺制造）：

提示：
① 建议大网格 = 工艺最小单元的整数倍，小网格 = 最小线宽或间距，方便绘制时快速对齐；
② 在绘制精细互连线时，开启 Snapping 可以保证所有端点精准落在网格上。

在完成了基本的网格设置之后，需要进一步掌握 对象操作的三大关键要素：吸附、绘图与选择

对象选择设置

选择（Selection） 是所有编辑操作的前提。只有正确理解选择范围、取消选择范围和编辑灵敏度的设置，才能在复杂版图中快速、准确地定位和修改对象。

对象吸附设置

吸附（Snapping） 是保证版图精度和器件对齐的基础。通过合理设置吸附点、偏移量以及感应范围，可以确保金属线、端口、实例单元在连接时精确落位，避免后续 DRC/LVS 出现误差。

绘图属性设置

绘图（Draw） 则是版图构建的核心工具。无论是矩形、多边形，还是圆弧、文字与端口，所有器件图形都通过绘图命令生成，优先设置好绘图的相关属性可以辅助自己的绘图过程清晰明了。

5. Cell单元、Layer的相关属性

Cell单元属性

在完成了网格与对象操作的基础设置后，接下来需要关注版图设计中最核心的两个元素：Cell 单元与 Layer 图层。

• Cell 单元是版图设计的基本模块，所有器件、端口和图形都需要依附于某个单元进行组织。
• Layer 图层则定义了不同工艺层面的几何信息，是进行工艺映射和设计规则检查的关键。

新建 Cell 与删除

首先，在 L-Edit 中，新建一个 Cell 十分直观。只需在 Cell 窗口内右键，即可选择 新建 (Create New Cell)，随后为单元设置一个合适的名称，并在属性对话框中补充相关信息（如作者、组织、附加说明等），这样便完成了一个新的设计单元的初始化。

Cell 的删除操作：

Cell单元创建完成后，我们可以在Cell窗口中看见我们的Cell对象，在此先说明一点，根据每一个Cell背景颜色的不同，可以判断Cell之间是否存在引用和实时关联关系，正如上图中的引入例图单元、Select Hierarchy和Replace Instances是关于引用和实例化的操作（关于引用和实例化单元的操作，本文放在第10部分讲解）

如上图所示，在 Cell 窗口 中，不同颜色背景的单元代表了其在当前设计层次中的状态：

白色背景的 Cell：表示该单元已被其他单元调用（即已被实例化引用），因此属于 有效单元，在设计层次中处于被使用状态。

红色背景的 Cell：表示该单元目前没有被任何上层调用，处于 未引用（孤立）状态，也称为“orphan cell”。这些单元虽然仍保留在库中，但不会对最终版图结果产生影响。

状态

紧接着，在 Cell 窗口右键菜单 → 状态 (Status) 中，可以对单元进行锁定、显示控制和版本管理：
Lock/Unlock 可以控制单元是否可编辑（锁定），Show/Hide in cell lists 调整其在列表中的可见性（隐藏），隐藏 Cell 只影响界面的显示，不会影响它们的实际内容或设计。如果隐藏了某个Cell，想要重新显示如下图步骤操作：

Increment version 实现版本号递增（这东西感觉没啥用，使用过程中不用管就行）

工具

接下来就是关于工具展开的两个功能：

Select Hierarchy

紧接着，Select Hierarchy选择该 Cell 的层次引用关系，显示它被哪些 cell 调用，或它调用了哪些子单元：

设置——过滤

通过 过滤功能，可以快速筛选和显示特定的单元，帮助我们在大量数据中定位和处理所需对象。

进一步对于字符串 Sub-string Filter和视图名称 View-name Filter的过滤选择器：

设置完成字符串字段过滤器之后，筛选使用方法如下：

对于视图查看模块简单说几句：

设置——列

列设置可以自定义 Cell 窗口显示的内容，包括名称、视图、库等，以优化界面布局和提高操作效率。

特别地，对于自定义列显示，是在右侧打开的Column Chooser窗口中选择想要添加的列属性，鼠标左键长按拖到Cell单元窗口的列中才能添加自定义显示成功，如图：

设置——颜色

使用颜色设置，可以为不同类型的单元（如修改过的、隐藏的、预留的）分配颜色标识，方便快速识别和管理设计元素。

这部分根据自己需要勾选即可，最后再说一下左上角选择器：

具体功能参阅下表：

过滤选项	描述
过滤	应用自定义筛选条件的基本过滤选项。
顶层	显示没有父单元的顶层单元。
叶子	显示没有子单元的叶子单元。
子单元	显示所选单元的子单元。
父单元	显示所选单元的父单元。
后代单元	显示所选单元的所有后代单元。
祖先单元	显示所选单元的所有祖先单元。
已修改	显示已修改的单元。

Layer层级属性

Layer 用于区分和管理设计中的不同元素，每个 Layer 对应一种功能或物理结构。通过合理配置 Layer，可以有效地组织图形，确保设计的清晰和高效。

设置层

紧接着，我们先来讨论 Setup Layers ②设置层：

在使用 Setup Layers 时，请务必填写对应的 GDSII number（图层编号）。这一点非常重要，因为 GDS 文件主要依赖图层编号来识别和导出图形。如果编号为空，可能导致导出的 GDS 文件内容为空，从而在导入其他版图软件时出现报错或显示异常。即使不是最终交付代工厂的规范设计，也建议为每个图层指定一个唯一的 GDSII 编号，避免空缺或重复，以确保文件的完整性与兼容性。

上图中在Layers列表区有一些系图层，其与Layer Palette选择器是类似的，详见下表 Layer Palette 图层筛选选项说明 和 系统层级 Layer 说明：

Layer Palette 图层筛选选项说明表

选项名称	功能说明	典型作用场景
全部 (All)	显示所有图层（系统层 + 自定义层）。	默认显示模式，适合初学时全面查看。
过滤 (Filter)	根据设置的条件筛选显示部分图层。	当图层较多时，用于快速定位所需图层。
Drawn	仅显示用户手动绘制过的图层。	检查或回顾实际绘制内容时使用。
In Use in File	显示当前整个文件中实际被使用的图层。	确认哪些图层在全局版图中有数据。
In Use in Cell	显示当前 Cell 内被使用的图层。	方便单元级别调试或检查。
In Use in Cell + Hierarchy	显示当前 Cell 及其层级结构中被使用的图层。	多层级结构检查时使用。
Generated	显示由派生 (Derivation) 或布尔运算生成的图层。	管理和查看通过逻辑运算得到的辅助图层。
Special	显示特殊系统层（如 Grid、Origin、Drag Box、Icon、Error、Cell Outline 等）。	调整系统参考层或检查辅助功能层时使用。

系统层级 Layer 说明表

系统层名称	功能说明	是否导出	常见用途
Grid Layer	显示参考网格，辅助对齐	否	精确绘图、手动布线
Origin Layer	标记原点位置，作为对齐参考	否	子单元放置、对齐检查
Icon Layer	图标/颜色显示层，提高辨识度	否	层识别、团队协作
Error Layer	显示 DRC/LVS 错误或违规点	否	版图调试、错误修复
Cell Outline Layer	显示单元边界框，标识 Cell 范围	否	层次化拼接检查
Drag Box Layer	鼠标拖拽时的临时选择框	否	对象选择辅助

接下来，创建一个新的Layer层：

新建

Purpose（用途） 就是给该层分配一个使用目的，让版图中的对象不仅仅依赖层号，还能带有语义标签：

Layer Purpose 速查表

Purpose 名称	功能说明	类别
drawing / drawing1-9	普通绘制层，用于放置几何图形（最常用）	设计类
cell	单元相关信息层	设计类
grid	网格辅助层	设计类
boundary	定义单元边界（cell outline），便于层次拼接	校验与流片类
blockage	阻塞层，指定区域禁止布线	校验与流片类
net	信号网络层，用于电气连接标记	校验与流片类
fill / gapFill	填充层，用于金属密度规则或工艺填充	校验与流片类
label	标签层，用于放置文字	标注辅助类
annotation / annotate	注释层，放置说明或标记，不影响电气	标注辅助类
info	信息层，作为参考使用	标注辅助类
flight	飞线层，用于检查引脚连通性	标注辅助类
error	错误层，通常由 DRC/LVS 生成	报错与警告类
fatal	严重错误层	报错与警告类
ackWarn / critical	警告或关键标记层	报错与警告类
oaAny / oaCustomFill	OpenAccess 兼容层，用于 EDA 工具数据交互	工具兼容类

Derivation 页签

Drawn 层是手动画的物理层，直接参与流片；
Derived 层是通过布尔运算从 Drawn 层派生，不直接绘制，主要用于验证和工艺映射。

派生层设置：

五种 Derivation 类型：

Derivation 类型	功能说明	常见用途
Boolean（布尔运算）	基于源层做布尔逻辑运算（AND、OR、NOT 等）生成新层	生成中间层（如接触孔/掩膜组合）、工艺规则验证
选择（Select）	挑选满足特定条件（如尺寸、形状）的几何对象	过滤小图形、去除不合规的残余多边形
Area（面积）	按面积大小生成新层，可设置面积阈值	检查并去除过小金属片、小岛结构
Density（密度）	计算局部区域的填充密度并输出结果层	CMP 平坦化检查、金属布线密度验证、辅助加填充
External（外部）	层定义来自外部工具或脚本，而非 L-Edit 内部	与 DRC/LVS 工具或工艺仿真软件交互

★着色

这是非常重要的一层，基本都会用到，设置层中对象的填充、边缘、颜色等

**！！！重要：**建议新建layer层的时候，将Outline（边缘线）的样式设置为无None，这样有一个好处，之后我们在选择了图形的时候，图形边缘就会有黑实线，便于我们看出哪些图形选中，哪些没有选中！

当然了，也可以分别去设置Outline（边缘线）的样式和颜色，以及图形对象被选中时候（Selected object）的样式和颜色，只要你自己能区分开就行！

对象列表中着色属性修改对象说明：

列表项	含义 / 作用范围	常用设置建议
Object	该层上未被选中的普通几何对象（Polygon/Box/Path 等）的填充与边框样式。	设清晰的填充色 + 适度边框，保证与其他层有对比。
Selected object	该层上被选中的几何对象显示效果（高亮样式）。	选更亮或对比强的颜色；可加粗边框，便于识别选择态。
Port box	端口（Port）自身的边框/盒显示；只影响端口的几何框，不含文字。	通常设置为无填充、明显的边框色（如亮色）。
Selected port box	端口被选中时的盒/边框样式（端口的高亮效果）。	用更亮的边框色或更粗的线宽以强调选择态。
Port text	端口名称（Terminal name）的文字显示样式（颜色/填充与本项相关）。	选与背景反差大的字体颜色；保持清晰可读。
Selected port text	端口名称文字在选中时的显示样式。	设更亮或反差更大的字体色以区分。
Wire centerline	Path/Wire 的中心线覆绘（仅用于显示，不是实际几何；不导出 GDS）。	细线（1 px）、低饱和度色；便于对齐与检查路径走向。
Selected wire centerline	被选中路径的中心线样式。	设更亮色或略加粗，方便定位选中的线。

选项

选项操作主要是用来定制 Layer Palette 界面的显示信息，根据工作需求可显示/隐藏不同的列，有点类似于上部分讲到的拖动调节的Cell属性列的显示：

6. 基础的绘图操作（基本图形、复制、旋转、镜像、分割、移动、对齐、编辑）

至此，我们已经完成了前面关于各类面板、视图以及属性的学习与设置。接下来，就进入到正式的绘图环节。在这一部分，我们将从最基础的操作入手，包括基本图形的绘制、对象的复制与移动，以及旋转、镜像和分割等常用编辑方法。

基本图形绘制

开始绘制版图前，首先要创建设计，创建 Cell 和 Layer 才能开始在绘图工作区绘制版图（如果无法绘制则是点击 Cell 和选中想要绘制的 Layer 层）：

对于绘图工具栏区域的各个按钮的功能，鼠标静止停留都会有注释，这点自己多看看就知道了，此处不再详细赘述。

接下来，我们来到绘图区域，点击想要绘制的按钮即可在网格窗口中完成左键长按的拖拽绘制，特别说明的一点在绘制多边形时候，最后的终点需要双击鼠标左键才能结束绘制，否则软件默认还将继续绘制下一个点。另外，绘制完一个图形后，软件默认不退出绘制模式，可以继续绘制相同类型的下一个图形，按 Esc退出绘制到选择模式。

如果一打开软件，没有看到画圆、扇形和圆环的按钮，则根据下图步骤开启即可，另外再说明一点，版图绘制中都没有绝对的圆形，都是提供大量的点构成的多边形来近似形成的圆，所以之前部分讲的网格精度的设置就尤为重要，精度不够很容易导致圆形变成粗糙的多边圆，但是精度过高也不好，会导致图形点集数量过多，数据量增大：

复制

点击工具栏的复制按钮，但是这样复制出来的图形会和原来的图形完全重合在一起，这时候需要长按鼠标滚轮及其分离开才能看见；
另外还可以直接使用快捷键Ctrl + C和Ctrl + V快速完成复制操作。

旋转

点击工具栏上的旋转按钮，即可对选中的图形进行旋转操作。需要注意的是，旋转的中心点默认是以图形的几何中心为基准进行的，因此图形会原地转动，而不会移动到其他位置。如果希望调整旋转后的图形位置，可以在旋转完成后，按住鼠标滚轮拖拽进行分离或移动。
另外，旋转同样支持快捷键操作：使用 Ctrl + R 可以快速完成旋转。

镜像

点击工具栏上的 镜像按钮，即可将选中的图形沿水平轴或垂直轴进行镜像操作。和复制一样，镜像生成的图形在初始状态下会与原图形完全重合在一起，此时需要长按鼠标滚轮将其拖拽分离，才能清楚看到镜像后的效果。
另外，也可以通过快捷键 H、V （英文输入）快速完成镜像操作。

分割、切洞

点击工具栏上的 分割按钮，即可将选中的图形按照鼠标点击位置切分成两个或多个独立部分。其实在实际绘图中，这个功能运用到的不多，主要是对于复杂图形的处理能力适配度低，更多还是运用多个图形的布尔运算操作。

移动

对象和图形的移动最简单的就是选中图形长按滚轮即可移动，也可以选中多个图形长按滚轮整体移动，还可以通过 Ctrl + 方向键精调位置。

另外，还可以利用工具栏移动值按钮实现固定精确值的移动：

对齐

对齐操作很简单，而且实用性不强，大部分网格开了格点移动之后手动对齐就行，具体的工具栏实现如下：

图形编辑

点击工具栏的编辑物体按钮（小眼镜），即可对选中的图形进行调整，比如修改其尺寸、位置或属性。另外，还可以直接使用快捷键 Ctrl + E 快速进入编辑模式，对图形对象进行灵活修改，不同的图形涉及的尺寸、位置信息参数不同，如多边形可以修改每个顶点坐标，圆则可以修改圆心坐标和半径，具体修改具体分析即可：

特别说明，对于矩形有多种不同的操作方式，可以根据中心点和长宽尺寸修改，也可以根据四个订和长宽依次修改：

7. 复杂的绘图操作（组合、布尔运算、阵列）

合并

点击工具栏上的合并按钮，被选中的多个图形会自动融合为一个整体轮廓，重叠区域会被吸收，只保留一个统一的形状。与复制不同，合并操作后不会生成新的对象，而是直接把原有图形整合起来，因此视觉上可能变化不大，但本质上已经成为一个新的单一图形，后续移动或编辑时会整体作用。

合并操作类似于布尔运算中的“或”，但仅限于同一层（Layer）内的图形使用。对于不同 Layer 之间的对象，无法直接合并，只能通过布尔运算中的“或”等方式来实现等效功能。

Bool布尔运算

在掌握了基本的图形绘制与编辑之后，我们常常会遇到更加复杂的版图设计需求：比如两个图形的重叠区域需要保留、或者要去掉其中一部分，甚至要快速得到两个图形的并集。此时，简单的复制、旋转、镜像就显得力不从心了。
**布尔运算（Boolean Operation）**正是为此而生——它可以像逻辑运算一样，对图形进行与（AND）、或（OR）、非（NOT）、异或（XOR）等操作，从而高效生成目标几何。通过布尔运算，我们能够在不同图层或同一图层之间灵活处理图形的关系。

同一Layer上图形的 bool 运算操作自己多试试几次就知道用法了，和数学上集合运算一样，对于不同层之间的 bool 运算：

布尔Bool运算功能表：

运算类型	功能说明	应用场景示例
或 (OR)	将两个图形的面积合并，生成包含两者的整体区域。	合并不同层上的区域，得到总覆盖范围。
和 (AND)	取两个图形的重叠部分，生成交集区域。	提取两个层之间的共同区域。
Xor (异或)	保留两个图形不重叠的部分，去掉重叠部分。	检查图形间差异，或用于版图比对。
Not (非)	取第一个图形中，除去与第二个图形重叠的部分。	去除被屏蔽区域，只保留有效部分。
Grow (膨胀)	将图形向外扩展一定距离。	模拟工艺扩散，或加大设计裕量。
Shrink (收缩)	将图形向内收缩一定距离。	模拟刻蚀收缩，或减少图形尺寸。
Subtract (A-B)	从图形 A 中减去图形 B，仅保留 A 中不与 B 重叠的部分。	从主层中去除掩模层。
Subtract (B-A)	从图形 B 中减去图形 A，仅保留 B 中不与 A 重叠的部分。	去除辅助层中与主层重复的部分。

如上图进行或运算之后：

周期阵列

通过层内复制实现周期阵列

• 复制法=生成独立几何体，编辑不联动

当阵列规模不大、且每个单元后续可能需要分别微调时，用最直接的“复制+偏移”就好。
配合图中流程：① 选中单元点复制；② 点移动；③ 在弹窗里填入精确偏移量（如 dx dy），即可得到整齐的间距。

完成偏移后，可以不断点击复制即可依次生成上述偏移量的阵列图形，完成一行的阵列之后还可全选，执行上述相同的偏移操作（y方向）实现二维周期阵列：

• 优点：所见即所得、任何形状都适用、容易做局部差异化。

• 注意：复制出来的是独立图形，数量很大时数据库会膨胀；后续改版需要逐一修改。

通过实例化引用实现周期阵列

• 实例化法=生成 cell 引用，编辑源单元即可全局同步（推荐使用这种）

当阵列很大、且希望一处改动全阵列生效时，使用 Instance/Array（NxM, Δx/Δy） 来放置 cell 引用最合适。

实例化引用的方式：

1. 点击工具栏中的引入图例单元按钮； 使用快捷键 i（英文）； 在打
2. 开一个 Cell 窗口的基础上，选中另外一个 Cell
3. 右键点击引入例图单元；
4. 在打开一个 Cell 窗口的基础上，直接左键长按拖入另外一个 Cell。

选中引入的图例，Ctrl + E 进行对象编辑：

注意，需要根据需求正确设置 Delta 周期，默认的 Delta 周期一般都不对，在周期等于 Cell 边长时候，周期完的图形之间就会紧密贴合形成一整块，类似放大的效果，如下案例给出10*10周期数目下，周期是2和3微米（引入图例边长为2微米）的区别演示：

• 优点：体量小（仅保存引用）、同步性强（改源 cell 即全阵列更新）、便于层次化管理。

• 注意：想对某个阵列元素做“个别差异”时需打散（Ungroup/Make Unique），也就是工具栏按钮的撤销聚组或额外覆盖几何，如下图：

8. 测量与辅助（标尺）

在版图设计过程中，除了绘制和编辑图形外，测量也是必不可少的环节。通过测量，我们可以快速获取任意两点之间的距离、图形的边长、角度等关键参数，从而保证设计尺寸与工艺要求的严格一致。同时，标尺工具还能作为辅助功能，帮助我们实时校准和比对图形布局，避免因视觉误差导致的偏差。

紧接着，就可以在标尺layer层上绘制辅助尺，分别有水平垂直、45°、任意角度三种标尺：

同样的，我们还可以在特定的辅助线 Layer 层上绘制辅助标线，例如芯片边缘的切割线边界的辅助绘制等：

9. 标记注释、文字生成器和查找功能

标记注释

标记和文字注释能够帮助我们在关键位置添加说明、提示或工艺要求，使设计更清晰直观，也方便后续的检查与交流。

标记和文字注释完成后，也可像图形对象一样移动和编辑：

文字生成器

在了解了文字工具的标记功能后，我们需要进一步关注真正能够在版图中刻出的文字。这就要用到版图文字生成器。与前者不同，它不仅仅是软件内的标识，而是通过几何图形直接绘制在版图层上，可以随 GDSII 文件一起导出并最终刻蚀到芯片中。

将生成的文字版图移动到合适的位置，在和相应图形进行异或运算即可得到附带文字版图的光刻版图：

查找功能

随着版图规模的增大，快速定位某一层、某一对象或特定属性就显得尤为重要，此时就需要用到查找功能。通过查找，我们能够高效地定位目标图形或文本，避免人工逐一翻找的低效过程。

工具栏查找按钮开启，或者使用快捷键 Ctrl + F 打开下面窗口：

下面给出一个具体的查找对象案例：

不同于上述的对象查找，窗口视图中可以开启一个关于Find in Hierarchy（层级查找）的窗口：

Match 匹配快速预览表：

名字输入	Match 方式	含义说明	使用场景
空着	任意	不进行名称限制，返回该类型下的全部对象	想快速列出所有端口、标签或实例时
有值	提取 (Exact)	精确匹配，只返回与输入名称完全一致的对象	查找唯一确定的对象，如 cell11
有值	Partial	部分匹配，只要名称中包含输入字符串即可	查找同类或批量命名的对象，如输入 cell → 匹配 cell1、cell11、mycell_A
有值	Wildcard 搜寻	支持通配符匹配： - cell* 匹配所有以 cell 开头的对象 - *test 匹配所有以 test 结尾的对象 - c?ll 匹配 cell、call	大规模项目中的模糊搜索，快速筛选目标

查找范围对照表：

选项	含义	适用场景
Cell: “cell2”	只在当前指定的单元 (cell2) 内部查找	精确锁定在某个 cell 的范围内，避免跨层级搜索带来干扰
Hierarchy: “cell2”	在 cell2 及其所有下级层次 (hierarchy) 中递归查找	当 cell2 内部还引用了其他子 cell，需要一并搜索时使用
Library: “test”	在指定的库 (Library) 中查找	如果工程有多个库，想只在某一个库范围内查找时使用
All libraries	在所有已加载的库中查找	进行全局搜索，适合不确定目标在哪个库的情况
Libraries…	自定义选择一个或多个库作为搜索范围	灵活设定范围，介于“单库”与“全部库”之间

层级查找案例：

Find in Hierarchy（层级查找）和 Find Object(s)（对象查找）区别：

10. 套壳版图的引用（同步性、关联性）

我们经常需要在一个大版图中调用或嵌套多个子单元，这就是所谓的套壳版图引用。通过引用的方式，我们不仅能够实现模块化设计，避免重复绘制，还能保持子单元与总版图之间的同步性和关联性。一旦子单元发生修改，引用的部分也会自动更新，从而保证设计的一致性与可维护性。

关于图例引用的操作具体可以参考前面第7章节——复杂的绘图操作（组合、布尔运算、阵列）的 通过实例化引用实现周期阵列 子章节，此处不再详细赘述引用方式的操作。

引用的本质就是在 Cell 之间构建实时关联和更新的树结构，当子节点单元被父节点单元引用之后，改变子节点单元 Cell 中的图形结构，那么父节点单元 Cell 中的相应图形结构和位置也会跟着发生变化，借助第7章中采用的 10*10 矩形周期阵列案例来说明：

紧接着，这里我们继续介绍几个复杂的问题，在完成引用之后，如果需要改变周期阵列内的 Cell 单元图样，而不改变多个周期的阵列规则，传统的方法就是重新进行周期阵列化，但是对于引用该子节点单元的父节点单元数量足够多的时候，传统方法显然不适用，此处我们就需要用到 Cell 属性中的 Replace Instances 操作：

子选项	说明	用法示例
Of This Cell…	替换当前所选 单个 Cell 的所有实例。	如果 cell1 在版图中有多个实例（阵列、单个引用），选择新 Cell 替换它们。
In Selected Cells…	替换当前所选 父 Cell 中的某些子实例，不会影响全局。	在 cell2 中引用了 cell1，只替换 cell2 里的实例，不影响其他父 Cell。
Retarget Library of Selected Cells…	将所选 Cell 的引用指向另一个库（Library），而不是换 Cell 名称。	如果原来引用 test 库中的 cell1，可切换到 newlib 库中的 cell1。

总而言之

• 全局替换 → 用 Of This Cell

• 局部替换 → 用 In Selected Cells

• 库切换 → 用 Retarget Library

继续基于上述的10*10矩形案例，把旧的子节点单元rect-1-1被任何父节点单元引用的地方全部替换为新的子节点单元circle-1-1（基于上图的替换参数）：

11. 文件导入导出与格式转换（GDS2、TDB等）

版图画完不代表结束——把数据“正确地”交出去才是关键。日常协作与长期保存用的 TDB 工程库，以及交付晶圆厂最常见的 GDSII / OASIS（含层号与数据类型映射），再顺带看下 CIF、DXF、Gerber 在特殊场景里的用法。

我们会按一条实操链路走：导入检查 → 层映射 → 单位/缩放 → 层级与文本处理 → 导出 → 回读验证。中途会提醒那些常见坑（比如 GDS 层号/DT 没填、数据库单位不一致、文本没转几何、派生层忘了导出等）。读完这一节，我们就能选对格式、配齐参数、回读自检—确保“我们交付的，就是我们看到的”。

文件数据导出操作

版图文件数据的导出：

Export scope（导出范围）选项对照表

选项（英文 UI）	中文含义	何时使用	备注 / 小贴士
All cells	导出所有 cell	需要整库打包、归档或交付全库时	体积最大；确保所有层映射与命名规范已就绪
Active cell	仅导出当前激活顶层 cell	交付/验证单个顶层版图（会自动带上子层级）	常用；配合 Include hierarchy 更稳妥
Fabrication cell	导出“制版/工艺总装”cell	工程采用专门 Fabrication/Top cell 汇总时	没有该用法可忽略
单元（… 选择）	指定一个/多个目标 cell 导出	只交付指定模块或做问题复现	可精确点名；配合 Include hierarchy 使用
Cells from libraries	从指定库导出	多库工程中只导出某几本库	右侧 … 选择库；与 Exclude libraries 互补
Cells selected in navigator	导出 Navigator 中选中的 cell	先在 Cell 面板框选/挑选，再一键导出	快速、可视化选择
Include hierarchy	包含子层级	需把所选 cell 的所有引用一起写出（最常勾）	不勾可能导致缺层级而导入报错
Exclude libraries	排除某些库	临时剔除测试库、外部参考库	与 Cells from libraries 组合实现白/黑名单

常见导出格式速查

格式	典型用途/流向	主要特性（优/缺点）	导出要点（容易踩坑的地方）
GDSII	主流 IC/硅光/MEMS 流片交付（mask 数据）	工业事实标准；层=GDSII number + data type；体积较大；不支持弧（近似折线）	Setup Layers 给每层填好 GDSII number / data type；确认 Database unit / Scaling；需要刻蚀的文字请先转成几何；尽量保留层级结构。
OASIS	大规模/新工艺设计交付（GDS 的升级）	文件超小、阵列/重复更高效；大多数晶圆厂接受	同样要正确映射层号/DT；开启压缩；大阵列/超大版图优先用 OASIS。
CIF	老工艺/教学/部分科研工具互转	文本化、简单；表达能力有限	仅当对方工具要求时使用；回读检查层名是否被截断或合并。
DXF	机械/CAD 互操作（AutoCAD、机加/光刻前置绘图）	线框友好；不是掩膜标准（无层类型概念）	仅做展示/加工沟通；回导流片不可靠，几何常被离散为线段。
Gerber	PCB/光绘（菲林）	光绘机行业标准	IC 流片一般不用；MEMS/微纳实验室出菲林时要对好单位、极性和“层→绘制指令”的映射。
TDB（工程库）	L-Edit 原生工程保存/协作	完整保存库、Cell、层设置、派生层、配色等上下文	用 Save Cell to TDB File… 保存；不直接交付流片，需再导出 GDSII/OASIS。

导出流程（流程图 + 步骤）

实操 5 步法（以 GDS/OASIS 为例）：

• ①层映射：Setup Layers → 为每个图层填写 GDSII number / GDSII data type（必做，不填很容易导空层或导入报“Unknown layer”）。

• ②单位检查：在导出对话框确认 Database unit / Scaling 与工程一致。

• ③层级与文字：勾选是否保留层级、压缩；需要被加工的文字建议用“版图文字生成器”先转成实际几何再导出。

• ④派生层/可见层：使用了 Derivation 生成的层，确认是否包含在导出清单中；可见≠导出，导出以层映射为准。

• ⑤回读自检：导出前跑一次 DRC；导出后用 KLayout/L-Edit 回读，核对层号/数据类型、数量、层级是否一致。

12. 命令行的使用和输入（用到情况较少）

通过命令行，我们不仅可以更快速地完成特定操作，还能执行一些图形界面中难以直接实现的批处理命令或高级指令。命令行的使用大大提升了操作的灵活性与效率，尤其是在需要反复调用某些功能、进行批量文件处理或调试时，显得尤为重要。

说明
• 所有命令均可附加 -help 获取用法：如 rect -help、mgc_rve_import -help
• “是否常需参数”用于提示：很多绘图/导入导出命令必须带参数才会执行
• 示例里出现的 <…> 都是占位符（参数位示意），具体参数名/顺序以 命令 -help 为准

1) 绘图 / 版图对象

命令	用途	是否常需参数	示例（占位/可直跑见注）	功能说明
box	画矩形（Box）	是	box <x1> <y1> <x2> <y2>	以对角点坐标生成矩形。
rect	画矩形（Rect）	是	rect <x1> <y1> <x2> <y2>	同上，命令族差异可用 -help 确认。
circle	画圆	是	circle <cx> <cy> <r>	圆心+半径生成圆形。
polygon	画多边形	是	polygon <x1,y1 x2,y2 …>	传入顶点序列闭合成型。
wire	画线（Wire）	是	wire <w> <x1,y1 x2,y2 …>	线宽 + 路径点。
cross	十字标记	是	cross <cx> <cy> <size>	放置对准/标识十字。
barcode	文本→条码	是	barcode <text> <x> <y> <h>	以文本生成条码几何。
hershey	文本刻字（Hershey）	是	hershey <"TEXT"> <x> <y> <size>	将文字转为可布尔运算的几何。
port	新建端口	是	port <name> <x> <y> <layer>	版图 I/O 标注。
instance	放置实例/阵列	是	instance <cellName> <x> <y> [array…]	引用子单元（可阵列）。
group	打包成新 cell 并实例化	否/是	group（先选择对象）	将所选几何成组并放回实例。
ungroup	解组/打散	否/是	ungroup（选中实例）	把实例打散成几何。
delete	删除实例/选择	否/是	delete（选中）	删除所选对象/实例。
merge	合并几何	是	merge <layer> 或 merge selection	同层并集/连成一体。

2) 图层 / 颜色 / 派生

命令	用途	需参	示例	功能说明
layer	设当前绘图层（可创建）	是	layer <layerNameOrId>	切层后新画的对象落在该层。
colorpalette	改/查色板	是	colorpalette <index> <r> <g> <b>	修改显示颜色（非版图数据）。
pastetolayer	粘贴到指定层	是	pastetolayer <layer>	将剪贴/所选对象改落层。
generatelayer	生成派生层	是	generatelayer <rule…>	按布尔/密度等规则生成新层。

3) Cell / 层级 / 定位

命令	用途	需参	示例	功能说明
cell	打开/新建 cell	是	cell <cellName>	进入或创建指定单元。
moveorigin	调整原点	是	moveorigin <dx> <dy> 或 moveorigin <x> <y>	便于阵列/对齐的原点重设。
position	元素定位	是	position <selector> <x> <y>	精确移动/放置对象。
findinstance	找实例	是	findinstance <namePattern>	按名/规则定位实例。
findoverlap	找重叠	否/是	findoverlap	发现叠盖区用于修正。
locate	跳到命名点	是	locate <pointName>	快速视图跳转。

4) 校验 / 日志 / 评估

命令	用途	需参	示例	功能说明
drc	运行 DRC	否/是	drc	在当前 cell 做设计规则检查。
logmessage	写日志	是	logmessage "hello"	直接可运行：在日志窗打印文本。
verbosity	日志冗余级	是	verbosity <level>	调整输出详尽程度。
evaluate	评估表达式	是	evaluate {1+2*3}	计算表达式并返回结果。
dtos	双精→串	是	dtos <double>	数值转字符串。
stod	串→双精	是	stod "3.14159"	字符串转数值。
property	属性命令	是	property <selector> <name> <value>	读写对象/层/单元属性。
test	实验命令	否/是	test -help	查看可用试验项。

5) 导入 / 导出 / 数据库

命令	用途	需参	示例	功能说明
mgc_rve_import	导入版图	是	mgc_rve_import <options…>	通过 RVE 接口导入（看 -help）。
mgc_rve_export_layout	导出版图	是	mgc_rve_export_layout <options…>	导出 GDS/OASIS 等（看 -help）。
compress	压缩库	否	compress	清理/压缩 TDB。
database	库管理/查询	是	database <subcmd…>	枚举对象、库信息等。
xreffiles	外部引用管理	是	xreffiles <subcmd…>	统一管理外链/依赖。
save	保存	否	save	立即保存工程。
exit	退出	否	exit	结束会话（谨慎）。

6) 高亮 / 交互（RVE/探查）

命令	用途	需参	示例	功能说明
mgc_rve_context	设高亮上下文	是	mgc_rve_context <cellName>	指定高亮所属单元。
mgc_rve_layer	高亮层	是	mgc_rve_layer <layer>	高亮某层。
mgc_rve_highlight_index	高亮色序号	是	mgc_rve_highlight_index <n>	选择高亮颜色槽。
mgc_rve_rect	高亮矩形	是	mgc_rve_rect <x1> <y1> <x2> <y2>	画出高亮框。
mgc_rve_text	错误层文字	是	mgc_rve_text <"msg"> <x> <y>	在 error layer 标注。
mgc_rve_text_clear	清除标注	否/是	mgc_rve_text_clear	清除错误层文字。
mgc_rve_zoom	框选缩放	是	mgc_rve_zoom <x1> <y1> <x2> <y2>	视图缩放到矩形。
mr	高亮矩形	是	mr <x1> <y1> <x2> <y2>	简写版矩形高亮。
probe	交叉探查	否/是	probe	版图与报错/网表联动。

7) 环境 / 窗口 / 工作区

命令	用途	需参	示例	功能说明
window	窗口命令	是	window <subcmd…>	打开/排列/切换窗口。
workspace	工作区命令	是	workspace <subcmd…>	面板布局/配置切换。

8) 版图结构辅助

命令	用途	需参	示例	功能说明
ring	构建环形结构	是	ring <instName> <opts…>	围绕实例生成环。
surround	构建包围结构	是	surround <instName> <opts…>	生成护环/围栏。
tsource	源替换	是	tsource <from> <to>	替换工程/数据源引用。

注意事项：（稳妥执行）

• 先试 -help：rect -help、mgc_rve_export_layout -help；你能看到真实的参数名、必填项、单位与示例。

• 先选对象再命令：group、ungroup、delete、merge 等依赖“当前选择”。

• 图层先行：绘图前用 layer <…> 设定落层，导出前用 mgc_rve_export_layout -help 确认层映射/数据类型。

• 安全可直跑：save、exit、logmessage “text”、drc（默认规则）通常跨版本可直接执行。

🔒 郑重声明

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