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  当一个小交流电压加在发射结上,会产生发射极交流电流,该交流电流的大小取决于Q点位置,而曲线是弯曲的,所以Q点在曲线上的位置越高,发射极交流电流的峰值越大。

           

  发射极总电流是直流分量和交流分量叠加而成,即IE = IEQ + ie

  IEQ为发射极直流电流,ie为发射极交流电流,而上图发射极的总电压包括直流分量和交流分量,为VBE = VBEQ + vbe

  VBEQ为发射结上的直流电压,vbe为发射结上的交流电压,上图VBE上的正弦变化在IE上产生正弦变化,ie的峰值取决Q点位置,对于曲线的弯曲,同样的vbe下,Q点在曲线的位置越高,ie越大,即发射结的交流电阻随发射极直流电流的增加而降低。

  发射结交流电阻的定义为:r′e = vbe / ie

  表示发射结交流电阻等于发射结上交流电压除以发射极交流电流,r′e上的′表示该电阻在晶体管内部,由于vbe基本保持不变(即交流电压的幅度基本是不变的),所以发射结交流电阻总是随着发射极直流电流的增加而降低(Q点移动)。

  并且由于固态物理学和微积分的知识,可以推导出发射结交流电阻的重要公式,即

                                                             r′e​=25mV / IE

  即发射结交流电阻的估算,该公式适用所有类型晶体管,使用条件是假设满足小信号、室温、矩形突变发射结条件,由于商用晶体管一般具有渐变的非矩形结,实际情况会与上述公式有些区别,但是几乎所有商用晶体管的发射结交流电阻都在25mV / IE 和50mV / IE之间。

  所以r′e很重要,它决定着电压增益,r′e值越小,电压增益越高。

  1.r′e​=25mV / IE该公式的物理意义是什么?

答:​该公式仅依赖​载流子热运动​​和​​电流连续性原理​​,与半导体材料(Si、Ge等)无关,故适用于所有BJT晶体管,在半导体物理中,热电压 VT​=qkT​是核心参数(k为玻尔兹曼常数,T为绝对温度,q为电子电荷),在室温(25°C)下​​,T=298K,计算得 VT​≈25.85mV,近似为 ​​25 mV​​。

  热电压反映了载流子(电子或空穴)因热能导致的随机运动强度,决定了PN结的导电特性。

  分子25 mV​:源于载流子热运动能力(热电压),室温下近似为常数,若温度变化,热电压 VT​随之改变(如0°C时 VT​≈22mV,50°C时 ≈28mV)。

  分母 IE​​​:反映静态工作点对载流子浓度的调制作用,电流越大,载流子响应电压变化的能力越强,电阻越小。

  2.为什么r′e很重要,决定了电压增益?

答:根本原因在于它​​直接反映了发射结载流子浓度梯度对小信号电压的响应能力​​,进而控制集电极电流的变化幅度,发射结本质是基区与发射区之间的载流子注入通道。当基极-发射极电压VBE变化时,势垒高度改变,导致​​注入基区的少数载流子浓度梯度​​变化。

  r′e的物理意义是:​​单位电压变化能引起多少载流子浓度梯度的改变​。​

  (1).高r′e(如IE小)​:载流子浓度梯度平缓,相同电压变化只能驱动少量载流子穿过基区,相当于“闸门阻力大”。

  (2).低r′e(如IE大)​​:载流子浓度梯度陡峭,微小电压变化即可引发大量载流子注入,相当于“闸门阻力小”

  而集电极电流IC由基区到达集电结的载流子数量决定,由于基区宽度极薄,载流子扩散是主导机制​,r′e越小,载流子对VBE变化的响应越灵敏​​,相同ΔVBE能产生更大的ΔIC,而电压增益Av正比于ΔIC在负载电阻上的压降(ΔIC·RL),因此r′e直接控制增益的“放大倍数源头”。

  注:以上仅个人观点,如有错误,恳请批评指正

http://www.dtcms.com/a/610659.html

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