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[创业之路-611]:半导体行业供应链 - 半导体原材料 - 电子特气

一、什么是电子特气?

电子特气(Electronic Specialty Gases)是指在半导体、显示面板、光伏等电子制造业中,用于关键工艺环节的高纯度、高稳定性、高安全性的气体。它们不仅是反应源,更是精确控制米级结构的核心介质。

核心特征

  • 超高纯度:通常要求 99.999%(5N)至 99.99999%(7N),杂质(H₂O、O₂、颗粒物)控制在 ppb(十亿分之一)级别。
  • 高稳定性:批次间一致性要求极高,避免工艺波动。
  • 高危险性:多数为易燃、易爆、剧毒、强腐蚀性气体,存储、运输、使用需极端安全措施。
  • 高价值:用量小但单价高,是半导体材料中成本占比仅次于硅片、光刻胶的品类。

二、电子特气在半导体制造中的核心应用

工艺环节主要功能代表气体
化学气相沉积 (CVD/ALD)沉积薄膜(SiO₂, Si₃N₄, Poly-Si, Metal)硅烷(SiH₄)、氯化硅(SiCl₄)、氨气(NH₃)、六氟乙烷(C₂F₆)、三甲基铝(TMA)
离子注入 (Ion Implantation)掺杂半导体,形成P/N区砷化氢(AsH₃)、磷化氢(PH₃)、乙硼烷(B₂H₆)、BF₃
干法刻蚀 (Dry Etching)精细图形刻蚀(Gate, Contact, Trench)六氟化硫(SF₆)、三氟化氮(NF₃)、四氟化碳(CF₄)、氯气(Cl₂)、六氟丁二烯(C₄F₆)
腔室清洁 (Chamber Clean)清除反应腔内沉积物三氟化氮(NF₃)、六氟乙烷(C₂F₆)、氟气(F₂)
退火/扩散激活杂质、修复晶格损伤氮气(N₂)、氧气(O₂)、氢气(H₂)
外延生长 (Epitaxy)生长高质量单晶层氯化硅(SiH₂Cl₂)、氢气(H₂)
载气/吹扫气输送反应气体、隔离环境氮气(N₂)、氩气(Ar)、氦气(He)

⚠️ 关键点
一片12英寸晶圆的制造过程可能涉及50种以上电子特气,经历数百道工艺步骤。


三、电子特气的主要分类

类别代表气体特点与挑战
含氟气体NF₃, SF₆, CF₄, C₂F₆, F₂用于刻蚀和清洁,强温室效应(GWP值高),环保压力大。
含氢气体SiH₄, GeH₄, PH₃, AsH₃, B₂H₆多数易燃、剧毒(如PH₃、AsH₃),需使用气体稀释系统(如PH₃ in H₂)降低风险。
惰性气体N₂, Ar, He, Xe用作载气、保护气,纯度要求极高,尤其He用于冷却和检漏。
含氯/溴气体Cl₂, HCl, BCl₃用于刻蚀金属和多晶硅,强腐蚀性,对管道材质要求高(EP级不锈钢)。
前驱体气体TMA, TEOS, HCD, WF₆用于ALD/CVD,分子结构复杂,易分解,需温度控制稳定输送系统

四、全球主要电子特气供应商(国际巨头)

市场高度集中,由欧美日企业主导,形成“三巨头+专业厂商”格局。

企业国家核心优势
林德集团 (Linde plc)德国/英国全球最大工业气体公司,收购普莱克斯后实力更强,提供现场制气(On-Site) 和特气供应一体化解决方案。
液化空气集团 (Air Liquide)法国技术积累深厚,全球布局,为台积电、三星、英特尔提供高纯气体和气体面板系统。
空气产品公司 (Air Products)美国大宗气体与特气并重,擅长现场制氮、制氢,服务全球大型晶圆厂。
大阳日酸 (Taiyo Nippon Sanso)日本亚洲领先,子公司SNAP为三星配套,技术实力强,尤其在稀有气体(Ne, Kr, Xe)提纯方面。
昭和电工 (Showa Denko)日本提供高纯氨(NH₃)、含氟气体、WF₆等,是MOCVD和刻蚀气体重要供应商。
Entegris美国不仅供应气体,还提供气体输送系统、过滤器、阀门,实现“气体+材料+设备”一体化。
SK Materials韩国原SK Chemicals,为三星电子配套,技术进步快。

📊 市场格局:前五大厂商合计占据全球电子特气市场70%以上份额


五、中国主要电子特气供应商(国产替代主力)

近年来,中国企业突破“卡脖子”技术,多款气体进入主流晶圆厂认证。

企业股票代码核心进展
华特气体 (Huate Gas)688268.SH✅ 国内电子特气领军企业
✅ 超20种气体通过中芯国际、长江存储、华虹认证,包括NF₃、WF₆、PH₃、AsH₃、F₂等。
✅ 光刻混合气(Kr/Ne/Ar)获ASML认证,进入英特尔、德州仪器供应链。
金宏气体 (Jinhong Gases)688106.SH✅ 从大宗气体向特气延伸。
✅ 超10种电子特气通过认证,如高纯氨、笑气(N₂O)、氢气、氦气等。
✅ 在长三角布局多个现场制气项目,绑定中芯、长鑫等。
凯美特气 (KMTG)002549.SZ✅ 以回收石化尾气提纯高纯CO₂、Ar、Ne著称。
✅ 激光混合气(Kr/Ne/Ar)通过ASML、AMAT认证,用于光刻机光源。
✅ 湖南基地具备大规模生产能力。
昊华科技 (Hao Hua Technology)600378.SH✅ 中化集团旗下,拥有黎明院、西南院技术背景。
✅ 生产高纯WF₆、NF₃、GeH₄、PH₃等。
✅ 多款气体进入中芯国际、华虹等供应链。
南大光电 (Nanda Optoelectronic)300346.SZ✅ 突破ArF光刻气技术,国内唯一通过验证。
✅ 布局氢类、氟类电子特气,如磷烷、砷烷。
雅克科技 (Yako Tech)002409.SZ✅ 通过收购韩国UP Chemical,掌握高端前驱体(如含铪、含锆化合物),用于High-k介质。

六、电子特气供应链的关键环节

  1. 气体生产:高纯合成、提纯、配比(如NF₃提纯、稀有气体分离)。
  2. 气体包装与输送
    • 钢瓶/ISO-Tank:用于运输。
    • Gas Cabinet / VMB(阀柜):集成减压、过滤、控制。
    • CGS(洁净气体供应系统):确保气体在厂内输送的纯净。
  3. 气体输送系统
    • 管道材质(EP级不锈钢)、焊接工艺(轨道焊)、泄漏检测(He检漏)至关重要。
    • 企业如富士金(Fujikin)SwagelokEntegris提供高端阀门与接头。
  4. 现场制气(On-Site Generation)
    • 大型晶圆厂常采用现场制氮、制氢、制氧,保障稳定供应。
    • 林德、液空、金宏气体等提供EPC总包服务。

七、发展趋势与挑战

  1. 国产化率提升:目前中国电子特气整体国产化率约30%-40%,但在高端光刻气、掺杂气、前驱体等领域仍严重依赖进口。
  2. 技术壁垒高:涉及合成、提纯、分析、包装、运输全链条,需长期研发积累。
  3. 认证周期长:进入晶圆厂需1-3年验证先发优势明显。
  4. 安全与环保压力
    • 含氟气体(NF₃、SF₆)是强温室气体,面临减排压力。
    • 剧毒气体(PH₃、AsH₃)需严格安全管理。
  5. 产业集群化:围绕中芯、长存、华虹等晶圆厂,形成区域化气体供应网络。
  6. 并购整合加速:头部企业通过并购获取技术(如雅克科技收购UP Chemical)。

八、总结

类别代表企业
国际巨头林德、液化空气、空气产品、大阳日酸、昭和电工
国产龙头华特气体(认证最多)、金宏气体(现场制气)、凯美特气(光刻气)、南大光电(ArF气)
高端前驱体雅克科技(UP Chemical)
气体系统富士金、Swagelok、新锐股份(国产替代)

🔚 结论

  • 电子特气是半导体制造的“隐形冠军”材料,虽用量小但不可或缺。
  • 华特气体是中国电子特气国产化的标杆企业,认证种类和客户质量领先。
  • 随着中国半导体产业扩张,电子特气将成为继光刻胶、硅片之后又一个重点突破的“卡脖子”环节。
  • 具备核心技术、通过主流晶圆厂认证的国产供应商,将迎来黄金发展期
http://www.dtcms.com/a/415744.html

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