[创业之路-611]:半导体行业供应链 - 半导体原材料 - 电子特气
一、什么是电子特气?
电子特气(Electronic Specialty Gases)是指在半导体、显示面板、光伏等电子制造业中,用于关键工艺环节的高纯度、高稳定性、高安全性的气体。它们不仅是反应源,更是精确控制纳米级结构的核心介质。
✅ 核心特征:
- 超高纯度:通常要求 99.999%(5N)至 99.99999%(7N),杂质(H₂O、O₂、颗粒物)控制在 ppb(十亿分之一)级别。
- 高稳定性:批次间一致性要求极高,避免工艺波动。
- 高危险性:多数为易燃、易爆、剧毒、强腐蚀性气体,存储、运输、使用需极端安全措施。
- 高价值:用量小但单价高,是半导体材料中成本占比仅次于硅片、光刻胶的品类。
二、电子特气在半导体制造中的核心应用
工艺环节 | 主要功能 | 代表气体 |
---|---|---|
化学气相沉积 (CVD/ALD) | 沉积薄膜(SiO₂, Si₃N₄, Poly-Si, Metal) | 硅烷(SiH₄)、氯化硅(SiCl₄)、氨气(NH₃)、六氟乙烷(C₂F₆)、三甲基铝(TMA) |
离子注入 (Ion Implantation) | 掺杂半导体,形成P/N区 | 砷化氢(AsH₃)、磷化氢(PH₃)、乙硼烷(B₂H₆)、BF₃ |
干法刻蚀 (Dry Etching) | 精细图形刻蚀(Gate, Contact, Trench) | 六氟化硫(SF₆)、三氟化氮(NF₃)、四氟化碳(CF₄)、氯气(Cl₂)、六氟丁二烯(C₄F₆) |
腔室清洁 (Chamber Clean) | 清除反应腔内沉积物 | 三氟化氮(NF₃)、六氟乙烷(C₂F₆)、氟气(F₂) |
退火/扩散 | 激活杂质、修复晶格损伤 | 氮气(N₂)、氧气(O₂)、氢气(H₂) |
外延生长 (Epitaxy) | 生长高质量单晶层 | 氯化硅(SiH₂Cl₂)、氢气(H₂) |
载气/吹扫气 | 输送反应气体、隔离环境 | 氮气(N₂)、氩气(Ar)、氦气(He) |
⚠️ 关键点:
一片12英寸晶圆的制造过程可能涉及50种以上电子特气,经历数百道工艺步骤。
三、电子特气的主要分类
类别 | 代表气体 | 特点与挑战 |
---|---|---|
含氟气体 | NF₃, SF₆, CF₄, C₂F₆, F₂ | 用于刻蚀和清洁,强温室效应(GWP值高),环保压力大。 |
含氢气体 | SiH₄, GeH₄, PH₃, AsH₃, B₂H₆ | 多数易燃、剧毒(如PH₃、AsH₃),需使用气体稀释系统(如PH₃ in H₂)降低风险。 |
惰性气体 | N₂, Ar, He, Xe | 用作载气、保护气,纯度要求极高,尤其He用于冷却和检漏。 |
含氯/溴气体 | Cl₂, HCl, BCl₃ | 用于刻蚀金属和多晶硅,强腐蚀性,对管道材质要求高(EP级不锈钢)。 |
前驱体气体 | TMA, TEOS, HCD, WF₆ | 用于ALD/CVD,分子结构复杂,易分解,需温度控制和稳定输送系统。 |
四、全球主要电子特气供应商(国际巨头)
市场高度集中,由欧美日企业主导,形成“三巨头+专业厂商”格局。
企业 | 国家 | 核心优势 |
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林德集团 (Linde plc) | 德国/英国 | 全球最大工业气体公司,收购普莱克斯后实力更强,提供现场制气(On-Site) 和特气供应一体化解决方案。 |
液化空气集团 (Air Liquide) | 法国 | 技术积累深厚,全球布局,为台积电、三星、英特尔提供高纯气体和气体面板系统。 |
空气产品公司 (Air Products) | 美国 | 大宗气体与特气并重,擅长现场制氮、制氢,服务全球大型晶圆厂。 |
大阳日酸 (Taiyo Nippon Sanso) | 日本 | 亚洲领先,子公司SNAP为三星配套,技术实力强,尤其在稀有气体(Ne, Kr, Xe)提纯方面。 |
昭和电工 (Showa Denko) | 日本 | 提供高纯氨(NH₃)、含氟气体、WF₆等,是MOCVD和刻蚀气体重要供应商。 |
Entegris | 美国 | 不仅供应气体,还提供气体输送系统、过滤器、阀门,实现“气体+材料+设备”一体化。 |
SK Materials | 韩国 | 原SK Chemicals,为三星电子配套,技术进步快。 |
📊 市场格局:前五大厂商合计占据全球电子特气市场70%以上份额。
五、中国主要电子特气供应商(国产替代主力)
近年来,中国企业突破“卡脖子”技术,多款气体进入主流晶圆厂认证。
企业 | 股票代码 | 核心进展 |
---|---|---|
华特气体 (Huate Gas) | 688268.SH | ✅ 国内电子特气领军企业。 ✅ 超20种气体通过中芯国际、长江存储、华虹认证,包括NF₃、WF₆、PH₃、AsH₃、F₂等。 ✅ 光刻混合气(Kr/Ne/Ar)获ASML认证,进入英特尔、德州仪器供应链。 |
金宏气体 (Jinhong Gases) | 688106.SH | ✅ 从大宗气体向特气延伸。 ✅ 超10种电子特气通过认证,如高纯氨、笑气(N₂O)、氢气、氦气等。 ✅ 在长三角布局多个现场制气项目,绑定中芯、长鑫等。 |
凯美特气 (KMTG) | 002549.SZ | ✅ 以回收石化尾气提纯高纯CO₂、Ar、Ne著称。 ✅ 激光混合气(Kr/Ne/Ar)通过ASML、AMAT认证,用于光刻机光源。 ✅ 湖南基地具备大规模生产能力。 |
昊华科技 (Hao Hua Technology) | 600378.SH | ✅ 中化集团旗下,拥有黎明院、西南院技术背景。 ✅ 生产高纯WF₆、NF₃、GeH₄、PH₃等。 ✅ 多款气体进入中芯国际、华虹等供应链。 |
南大光电 (Nanda Optoelectronic) | 300346.SZ | ✅ 突破ArF光刻气技术,国内唯一通过验证。 ✅ 布局氢类、氟类电子特气,如磷烷、砷烷。 |
雅克科技 (Yako Tech) | 002409.SZ | ✅ 通过收购韩国UP Chemical,掌握高端前驱体(如含铪、含锆化合物),用于High-k介质。 |
六、电子特气供应链的关键环节
- 气体生产:高纯合成、提纯、配比(如NF₃提纯、稀有气体分离)。
- 气体包装与输送:
- 钢瓶/ISO-Tank:用于运输。
- Gas Cabinet / VMB(阀柜):集成减压、过滤、控制。
- CGS(洁净气体供应系统):确保气体在厂内输送的纯净。
- 气体输送系统:
- 管道材质(EP级不锈钢)、焊接工艺(轨道焊)、泄漏检测(He检漏)至关重要。
- 企业如富士金(Fujikin)、Swagelok、Entegris提供高端阀门与接头。
- 现场制气(On-Site Generation):
- 大型晶圆厂常采用现场制氮、制氢、制氧,保障稳定供应。
- 林德、液空、金宏气体等提供EPC总包服务。
七、发展趋势与挑战
- 国产化率提升:目前中国电子特气整体国产化率约30%-40%,但在高端光刻气、掺杂气、前驱体等领域仍严重依赖进口。
- 技术壁垒高:涉及合成、提纯、分析、包装、运输全链条,需长期研发积累。
- 认证周期长:进入晶圆厂需1-3年验证,先发优势明显。
- 安全与环保压力:
- 含氟气体(NF₃、SF₆)是强温室气体,面临减排压力。
- 剧毒气体(PH₃、AsH₃)需严格安全管理。
- 产业集群化:围绕中芯、长存、华虹等晶圆厂,形成区域化气体供应网络。
- 并购整合加速:头部企业通过并购获取技术(如雅克科技收购UP Chemical)。
八、总结
类别 | 代表企业 |
---|---|
国际巨头 | 林德、液化空气、空气产品、大阳日酸、昭和电工 |
国产龙头 | 华特气体(认证最多)、金宏气体(现场制气)、凯美特气(光刻气)、南大光电(ArF气) |
高端前驱体 | 雅克科技(UP Chemical) |
气体系统 | 富士金、Swagelok、新锐股份(国产替代) |
🔚 结论:
- 电子特气是半导体制造的“隐形冠军”材料,虽用量小但不可或缺。
- 华特气体是中国电子特气国产化的标杆企业,认证种类和客户质量领先。
- 随着中国半导体产业扩张,电子特气将成为继光刻胶、硅片之后又一个重点突破的“卡脖子”环节。
- 具备核心技术、通过主流晶圆厂认证的国产供应商,将迎来黄金发展期。