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【动态导通电阻】GaN HEMT动态导通电阻的精确测量

2023 年 7 月,瑞士洛桑联邦理工学院的 Hongkeng Zhu 和 Elison Matioli 在《IEEE Transactions on Power Electronics》期刊发表了题为《Accurate Measurement of Dynamic ON-Resistance in GaN Transistors at Steady-State》的文章,基于提出的稳态测量方法,研究了氮化镓(GaN)高电子迁移率晶体管(HEMT)的动态导通电阻(Ron),实验结果表明商业 GaN 器件在稳态下动态 Ron 变化显著,其稳定时间可达数分钟且与电压相关,脉冲测量易因测试时间不足导致结果不准确,该研究对准确预测 GaN 晶体管在实际功率转换器中的导通损耗以及公平比较不同 GaN 技术具有重要意义。

主要结论:

  1. 某些商业 GaN HEMT 器件在稳态下动态导通电阻(Ron)存在显著增加,且其稳定时间可达数分钟,与关断电压相关,如在 100V 下约需 3 分钟稳定,在 400V 下约需 10 秒稳定。

  2. 器件内部的陷阱效应

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