一、核心光路设计(以专利技术为例)
- 四倍频实现方案
- 基频源:采用1064nm固体皮秒激光器,重复频率1-2MHz,脉冲宽度15±3ps,光束质量M²<1.2。
- 倍频晶体:
- 二倍频晶体(LBO):温度设置为149℃,将1064nm转换为532nm。
- 三倍频晶体(LBO):温度设置为50℃,通过和频产生355nm激光。
- 四倍频晶体(BBO/CLBO):采用Ⅰ类临界相位匹配,相位匹配角θ=45°@532nm→266nm,转换效率>50%。
- 光路优化:
- 棱镜组:第一棱镜和第二棱镜呈布氏角区间(θB-5°至θB+5°)设置,优化光斑圆度并减少损伤。
- 二向色片:滤除532nm残余激光,保留355nm和1064nm光用于后续和频。
- 扩束镜:将266nm激光扩束至所需光斑尺寸(如39mm直径用于干涉光刻)。
- 自适应光学补偿(提升稳定性)
- 波前传感器:采用夏克-哈特曼传感器,实时监测波前畸变(纳秒级响应)。
- 变形镜:37通道压电陶瓷变形镜,面型调整精度λ/20(λ=266nm),覆盖50mm有效口径。
- 闭环控制:基于FPGA的实时处理系统,延迟<1ms,支持1kHz以上校正频率,补偿热透镜效应和机械振动。
二、机械结构设计(以Ablator-PDUV系列为例)
- 整机布局
- 尺寸:610mm(长)×394mm(宽)×150mm(高),重量40kg。
- 模块化设计:种子源、放大器、温控模块独立封装,支持快速维修(拆机时间<30分钟)。
- 光路支撑:
- 花岗岩底板:厚度50mm,表面精度±0.01mm,减少机械振动。
- 碳纤维支架:模量>200GPa,降低热变形。
- 弹性阻尼连接:光学元件通过Viton橡胶垫固定,振动衰减率>80%。
- 热管理
- 微通道水冷板:流道直径0.3mm,冷却液流速>2m/s,入口温度18℃±0.5℃。
- 半导体制冷片(TEC):10mm×10mm TEC嵌入晶体夹具,温度波动<0.1℃。
- 气凝胶毡隔离:模块间采用5mm厚气凝胶毡(热导率<0.03W/(m·K)),减少热传导。
三、关键参数标注示例
- 晶体参数
- BBO晶体:尺寸4mm×4mm×10mm,相位匹配角θ=42.4°±0.01°,φ=90°±0.01°。
- LBO晶体:尺寸3mm×3mm×5mm,温度控制精度±0.2℃,双光子吸收系数<10⁻⁴ cm/W(200℃时)。
- 光束质量
- 输出功率:>3W(266nm),功率稳定性<1% RMS(3小时)。
- 光束质量:M²<1.3,发散角<1mrad。
- 指向稳定性:<1μrad/h(通过自动准直系统实现)。
- 环境适应性
- 工作温度:15-35℃,湿度<80%RH(无凝露)。
- 防护等级:IP65,内部配备干燥剂吸收湿气。
四、图纸示例(文字描述)
- 主视图
- 左侧:种子源模块(LD泵浦源、SESAM锁模晶体、谐振腔尺寸100mm×100mm×50mm)。
- 中部:放大模块(Nd:YVO₄晶体尺寸3mm×3mm×5mm,偏振片角度布儒斯特角,波片类型λ/2波片)。
- 右侧:频率变换模块(LBO/BBO晶体相位匹配方式标注,温度控制接口,水冷板布局)。
- 顶部:控制模块(参数调节接口RS232/USB/以太网,状态监测传感器温度、电流、光功率)。
- 俯视图
- 光路底板:花岗岩底板尺寸标注,光学元件支架位置(如碳纤维支架模量>200GPa)。
- 水冷板布局:紫铜水冷板与Nd:YVO₄晶体接触面粗糙度Ra<0.4μm,流道直径0.3mm。
- 技术要求
- 输出特性:波长266nm±1nm,重复频率80MHz,脉宽<15ps。
- 安全标准:符合IEC 60825-1激光安全等级1M要求,配备光闸和急停按钮。
- 可靠性:通过12项极限测试(高温老化60℃/1000小时、振动测试3g/5-500Hz、高低温冲击-40℃~85℃/100次循环)。