重庆市官网首页优化关键词步骤
一、灯光模式与烘焙的关系
在URP中，光源的Mode属性决定了其参与烘焙的方式，分为三种模式：
1. Realtime（实时模式）
- 特性：完全动态计算，不生成光照贴图。适用于高频移动光源或需要实时互动的场景（如车灯、爆炸特效）。
- 烘焙影响：不参与烘焙流程，仅影响动态物体。需注意性能消耗，建议配合阴影距离（Shadow Distance）优化。
- 适用场景：PC/主机端高性能需求项目，或需动态调整光源参数的场合。
2. Baked（烘焙模式）
- 特性：完全离线烘焙到光照贴图（Lightmap）中，运行时无实时计算。适合静态环境光（如室内顶灯）。
- 烘焙内容：直接光、间接光、阴影均被烘焙。模型需标记为Static且生成Lightmap UVs。
- 局限：光源位置/角度变化无法实时反映，仅适用于固定光源。
3. Mixed（混合模式）
- 子模式选择：通过
Lighting > Scene > Mixed Lighting配置：- Baked Indirect：烘焙间接光照，直接光和阴影实时计算。适合动态物体需要正确投影的场景。
- Subtractive：烘焙直接光和阴影，动态物体通过Light Probe接收光照。适用于移动端性能优化。
- Shadowmask：烘焙间接光+阴影贴图，实时计算直接光。在阴影距离内混合实时与烘焙阴影，平衡效果与性能。
- 动态兼容性：静态物体使用烘焙数据，动态物体依赖Light Probe和Reflection Probe。
二、场景模型静态设置
1. 静态标记
- 在Inspector中勾选Static，启用
Contribute Global Illumination和Reflection Probe Static。 - 注意事项：
- 动态物体切勿标记Static，否则烘焙数据失效。
- 复合模型需拆分独立子网格，避免UV重叠导致光照错误。
2. 光照贴图UV生成
- 模型导入设置中勾选Generate Lightmap UVs，调整
Pack Margin避免贴图边缘渗色（建议2-5像素）。 - UV检查：使用Scene视图的
Baked Lightmap模式查看UV分布，确保无拉伸或重叠。
3. 优化参数
- Lightmap Resolution：根据模型尺寸调整（单位：texels/unit）。大型建筑建议5-10，细节物件可提升至20-30。
- Scale in Lightmap：降低不重要物体的缩放值（如地面设为0.5），节省贴图空间。
三、可复用烘焙配置文件的创建
1. 光照参数预设
-
在
Lighting > Lightmap Parameters中创建.asset文件，保存以下配置：- Resolution: 40 texels/unit - Padding: 4 pixels - Compressed: Enabled (移动端必选) - Indirect Intensity: 1.5 (增强间接光反弹) - Baked AO: Enabled (环境遮蔽增强) -
应用方式：
- 全局应用：在Lighting窗口选择预设。
- 局部覆盖：为MeshRenderer单独指定参数。
2. 灯光配置预设
- 创建空Prefab，附加灯光组件并设置参数（如Mixed模式+Shadowmask）。
- 使用Prefab Variant派生不同场景的特化版本，保持核心参数一致性。
3. 烘焙数据保存与复用
-
脚本方案：通过
PrefabLightmapData脚本将光照贴图与UV信息嵌入Prefab：// 示例代码：保存烘焙数据到预设 [SerializeField] private Texture2D[] lightmaps; [SerializeField] private RendererInfo[] rendererInfo;void Awake() {LightmapData[] combined = new LightmapData[lightmaps.Length];for(int i=0; i<lightmaps.Length; i++){combined[i] = new LightmapData {lightmapColor = lightmaps[i]};}LightmapSettings.lightmaps = combined;ApplyRendererInfo(rendererInfo, 0); } -
操作流程：
- 烘焙完成后将模型拖入Project窗口生成Prefab。
- 附加脚本并点击
Assets/Bake Prefab Lightmaps保存数据。 - 跨场景使用时，确保新场景的Lightmap Settings与烘焙时一致。
四、常见问题解决方案
| 问题现象 | 原因 | 解决方法 |
|---|---|---|
| 烘焙后模型无光照 | - 未标记Static - UV未生成 | 检查Static标记，重新生成Lightmap UVs |
| 光照贴图模糊 | Resolution过低 UV拉伸 | 提升Resolution，调整模型UV分布 |
| GPU烘焙中断 | 显存不足/驱动不支持 | 改用CPU烘焙或升级显卡 |
| 阴影边缘锯齿 | 软阴影采样不足 | 在URP Asset中提升Shadow Cascade数 |
通过以上配置，可系统化实现URP下的高效烘焙工作流，兼顾视觉效果与运行性能。建议在项目初期建立参数模板，结合版本控制管理光照预设，提升团队协作效率。
