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大家好,我是硅言。之前的文章和大家聊了OS测试,芯片测试之Open-Short Test全解析:从原理到实战。在芯片设计与测试中,输入低漏电(Input Leakage Low, IIL)和输入高漏电(Input Leakage High, IIH)是衡量引脚电气性能的重要指标。它们不仅影响芯片的功耗,还直接关系到可靠性问题。今天,本文将从定义、原理到实际测量方法,深入剖析这两项关键参数。

在这里插入图片描述

一、定义与重要性:芯片引脚的“隐形杀手”

在芯片的微观世界里,输入引脚如同神经末梢,时刻感知外部信号。​​输入低漏电流(IIL, Input Leakage Low)与输入高漏电流(IIH, Input Leakage High)​​,正是衡量这些“神经”是否健康的隐形标尺。

  • 输入低漏电(IIL): 当芯片的输入引脚被强制驱动至低电平(逻辑0)时,从电源(VDD)流向引脚的微小电流。理想情况下,此时输入引脚应呈现高阻抗,无电流通过,但实际因工艺缺陷或绝缘层变薄,仍会存在纳安(nA)至微安(µA)级的漏电流。
  • 输入高漏电(IIH): 当输入引脚被强制驱动至高电平(逻辑1)时,从引脚流向地(VSS)的微小电流。同样受工艺限制,这一电流可能因电路设计中的上拉/下拉电阻或ESD防护结构而增大。

这两项参数若超标,轻则导致静态功耗激增(如物联网芯片续航骤降),重则引发信号误判(如车载芯片误触发刹车指令)。据统计,全球每年因漏电流问题导致的芯片失效案例中,约15%直接关联IIL/IIH参数失控。

二、测量原理:从CMOS结构到电流捕捉

以下图CMOS电路示意图解释漏电流,请注意,实际芯片引脚电路与示意图不同,可能还包括ESD保护、上拉下拉等。输入引脚通过NMOS和PMOS管与电源及地连接。

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  • IIL测试,输入低电平(逻辑0)时,PMOS管导通,NMOS管截止,理想情况下无电流从VDD流向引脚。但实际因PN结反向漏电或绝缘缺陷,仍会检测到微小电流。
  • IIH测试,输入高电平(逻辑1)时,NMOS管导通,PMOS管截止,此时漏电流则通过PMOS的寄生二极管或栅极泄漏路径流向地。

随着工艺节点缩小(如7nm、5nm),绝缘层变薄,漏电流显著增加。此外,封装过程中的划痕、异物污染或电路桥接也会加剧漏电问题。

三、测试方法与技术实现

IIL和IIH的测量均基于加压测流(FVMI, Force Voltage Measure Current)对引脚施加特定电压(如VDDMAX或VSS),通过精密测量单元(PMU)检测电流值。

在这里插入图片描述

​​IIL测试流程​​
​​步骤1​​:为芯片供电至最大工作电压(VDDmax,如3.6V)。
​​步骤2​​:所有非被测引脚设为逻辑高电平(VIH=VDDmax),避免干扰。
​​步骤3​​:使用PMU强制被测引脚为0V,等待稳定后测量电流值。
判定标准​​:电流与技术手册限值对比。

硅言测试​IlL程序Demo(不是完整代码奥,仅示意):

power.POWER_ON(VDD);
var pinDigital = SemiContext.Digital("CS,DO,WP,DI,CLK,HOLD");
pinDigital.SetSelectedFunction("Digital");
pinDigital.SetIClamp(0.032).SetApertureTime(0.01).VForce(VDD);
var test_pin = SemiContext.Digital(​​IIL_TestPin);
test_pin.SetSelectedFunction("Digital");
test_pin.SetIClamp(0.000002).SetApertureTime(0.01).VForce(0);
Utility.Wait_mS(10);
for (int i = 0; i < MeasureTimes; i++)
{temp[i] = test_pin.IMeasure();
}
result = Utility.CalculateAverage(4, temp);
power.POWER_OFF();
test_pin.SetSelectedFunction("Disconnect");

​IlH测试流程​​
​​步骤1​​:供电至VDDmax(如3.6V)。
​​步骤2​​:非被测引脚设为逻辑低电平(VIL=0V)。
​​步骤3​​:PMU强制被测引脚为VDDmax,测量流入电流。
判定标准​​:电流与技术手册限值对比。

硅言测试​IlH程序Demo(不是完整代码奥,仅示意):

power.POWER_ON(VDD);
var pinDigital = SemiContext.Digital("CS,DO,WP,DI,CLK,HOLD");
pinDigital.SetSelectedFunction("Digital");
pinDigital.SetIClamp(0.032).SetApertureTime(0.01).VForce(0);
var test_pin = SemiContext.Digital(​​IIH_TestPin);
test_pin.SetSelectedFunction("Digital");
test_pin.SetIClamp(0.000002).SetApertureTime(0.01).VForce(VDD);
Utility.Wait_mS(10);
for (int i = 0; i < MeasureTimes; i++)
{temp[i] = test_pin.IMeasure();
}
result = Utility.CalculateAverage(4, temp);
power.POWER_OFF();
test_pin.SetSelectedFunction("Disconnect");

注意上/下拉电阻的影响,若输入引脚内置上拉电阻,IIL测试时电流会显著增大(几十至几百μA),需调整限值;下拉电阻则会影响IIH。一般情况下,可进入芯片测试模式暂时关闭上/下拉电阻,然后进行测量。

上述IIL和​IlH的测试方法,均使用串行测试,即依次对每个引脚施加目标电平(低/高),使用PMU逐个测量电流。该方法精度高,适用于引脚数量少或高精度要求的场景,但是效率低,耗时较长。随着芯片工艺进入纳米级,漏电流的检测精度要求从微安级迈向纳安级。新型测试设备结合AI算法,可自动识别异常模式并优化测试流程。例如,通过动态调整PMU参数,减少测试时间的同时保证准确性。


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